کد خبر: ۳۴۹۷۶
تاریخ انتشار : ۱۸:۴۲ - ۲۸ مهر ۱۳۹۷
استفاده از فتالوسیانین مس بعنوان لایه‌ی انتقال دهنده‌ی حفره باعث افزایش بازدهی و بهبود پایداری سلول‌های خورشیدی پروسکایتی در مقایسه با سلول‌های بدون لایه‌ی انتقال دهنده‌ی حفره است.

يكي از مراحل مهم در ساخت سلول خورشیدی شستشوی آن است که با FTO  انجام می‌شود. زیرلایه‌های FTO نامناسب سلول‌ها باعث افزایش مقاومت پودر روی و هیدروکلریک اسید رقیق شده سونش شده و طی چندین مرحله با آب صابون، آب دو بار تقطیر، اتانول و استون در حمام آلتراسونیک شسته و سپس در آون خشک می‌شوند. تیتانیوم دیاکساید که لایه سد کننده به روش چرخشی با سرعت ۴۰۰۰ دور بر TTIP حفره است با پیش ماده دقیقه و زمان ۶۰ ثانیه لایه نشانی میشود و سپس به مدت ۲۰ دقیقه در دمای ۱۲۰ درجه سانتیگراد در آون خشک شده و به مدت ۴۰ دقیقه در دمای ۵۰۰ درجه سانتیگراد در کوره بازپخت میشود. خمیر تیتانیوم با اتانول رقیق شده و با روش لایه نشانی چرخشی با سرعت ۴۰۰۰ دور بر دقیقه و زمان ۶۰ ثانیه لایه نشانی می‌شود. نمونه‌های لایه نشانی شده به مدت ۲۰ دقیقه و در دمای ۱۲۰ درجه سانتیگراد در آون خشک شده و سپس به مدت ۳۰ دقیقه در دمای ۵۰۰ درجه سانتیگراد در کوره بازپخت می‌شوند. این لایه، لایه انتقال‌دهنده الکترون است.

در مقاله زیر بررسی انتقال‌دهنده حفره فتالوسیانین مس بر عملکرد و پایداری سلول‌های خورشیدی پروسکایتی می‌پردازد.

روش ساخت سلول خورشیدیسایز: ۳۹۵.۶۳ کیلوبایت

 

ارسال نظر قوانین ارسال نظر
لطفا از نوشتن با حروف لاتین (فینگلیش) خودداری نمایید.
از ارسال دیدگاه های نا مرتبط با متن خبر، تکرار نظر دیگران، توهین به سایر کاربران و ارسال متن های طولانی خودداری نمایید.
لطفا نظرات بدون بی احترامی، افترا و توهین به مسئولان، اقلیت ها، قومیت ها و ... باشد و به طور کلی مغایرتی با اصول اخلاقی و قوانین کشور نداشته باشد.
در غیر این صورت، «برق نیوز» مطلب مورد نظر را رد یا بنا به تشخیص خود با ممیزی منتشر خواهد کرد.
نتیجه عبارت زیر را وارد کنید
captcha =
وضعیت انتشار و پاسخ به ایمیل شما اطلاع رسانی میشود.
پربازدیدها
برق در شبکه های اجتماعی
اخبار عمومی برق نیوز
عکس و فیلم
پربحث ترین ها
آخرین اخبار